真空镀膜设备给工件镀上一层薄膜，是需要一个过程，就跟我们工作一样，是有先后顺序， 先做什么，后做什么，是有大概流程的。下面汇成真空小编为大家详细介绍一下真空镀膜机镀制膜层流程，让大家对真空镀膜流程有一个大概的认识：

      1. 清洗工件：接通直流电源，氩气进行辉光放电为氩离子，氩离子轰击工件表面，工件表层粒子和脏物被轰溅抛出；

      2. 镀料的气化：即通入交流电后，使镀料蒸发气化。

      3. 镀料离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞以及高压电场后，高速冲向工件；

      4. 镀料原子、分子或离子在基体上沉积：工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。

      离子镀时，蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能，高速轰击工件时，不但沉积速度快，而且能够穿透工件表面，形成一种注入基体很深的扩散层，离子镀的界面扩散深度可达四至五微米，也就是说比普通真空镀膜的扩散深度要深几十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特别牢。

      以上便是真空镀膜设备镀膜的大概流程，蒸发镀膜技术、磁控溅射镀膜技术、多弧离子镀膜技术几乎流程都类似。