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       相对湿度是洁净室运作过程中一个常用的环境控制条件。半导体洁净室中相对湿度的目标值大约控制在30至50%的范围内，允许误差在±1%的狭窄的范围内，例如光刻区──或者在远紫外线处理（DUV）区甚至更小──而在其他地方则可以放松到±5%的范围内。 

       因为相对湿度有一系列可能使洁净室总体表现下降的因素，其中包括：

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