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7-19蒸笼独运,巧镀硒铟

(2025-08-25 08:57:23)
蒸笼独运,巧镀硒铟
7月18日,北京大学和中国人民大学科学家团队,匠心独运,巧夺天工,首创“蒸笼”方法,成功生长出高性能晶体管材料——硒化铟晶体管,一举实现了合成半导体领域的重大突破!“斫取青光写楚辞,腻香春粉黑离离。无情有恨何人见?露压烟啼千万枝。”
硒化铟(InSe)作为二维层状半导体,因电子迁移率高、导热性能优异,被视为替代硅基芯片的“黄金半导体”。然其大规模应用,长期受困于原子比例控制之壁——硒(Se)与铟(In)需严格保持1:1原子比,如同天秤两端,不容毫厘之差。传统开放容器加热法,因两者蒸发速率悬殊,如同风中柳絮与磐石,难以共舞,终致晶体质量难臻上乘。
科研团队慧眼独具,妙法天成`,将非晶态硒化铟薄膜置于密闭不锈钢容器中,固态铟放入精巧卡槽。加热后,铟熔化为液态金属密封圈,浑然天成,铸就一方类“蒸笼”的密闭乾坤。蒸汽态铟原子如春日和风细雨,均匀渗透至薄膜边缘,形成富铟液态边界,悄然驱动非晶薄膜重结晶为高质量单晶结构。“润物细无声,随风潜入夜。”凭借此“蒸笼”妙法,团队成功实现直径达5厘米的硒化铟晶圆制备,并构建出高密度晶体管阵列,为未来芯片级集成铺就坚实基石。《科学》杂志审稿人盛赞其为“晶体生长领域的重要突破”,首次攻克了二维半导体晶圆级集成这一全球性难题!为后摩尔时代芯片发展提供了极具潜力的硅替代方案,尤其适用于要求高算力、低功耗的AI推理、边缘计算等场景,如同为新锐的智能骏马配上了轻盈而强劲的黄金鞍辔。尤为可贵的是,“蒸笼”法设备至简至朴,成本可控,易于对接现有芯片制造流程,宛若将一枚温润的古玉,自然地镶嵌于现代科技的华冠之上。当然,目前晶圆直径(5厘米)距主流硅晶圆(12英寸)仍有星汉之遥,需进一步扩大生产规模,以期积跬步而至千里。然此役,已将硒化铟从实验室的珍奇,华丽转身为可望工程应用的芯片基材,其性能参数已露峥嵘,力压群芳,展现出碾压现有硅基技术的磅礴潜力。
这不仅是中国在尖端半导体领域“换道超车”的里程碑式壮举,更为全球后摩尔定律时代的信息技术革新注入了澎湃新动能!
科研的征途“冰塞川”、“雪满山”,下一步需凝心聚力,聚焦晶圆尺寸扩大与产线适配,精雕细琢,推动产业化进程。展望未来,那载着东方智慧的“蒸笼”,正升腾起驱动未来的澎湃动力,必将引领一场静默而深远的材料革命,在信息时代的苍穹下,闪耀出属于中国创新的璀璨星芒!

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