MKS电容压力计,压力传感器,压力开关和压力控制子系统


MKS Instruments,Inc.
MKS Instruments,Inc.是过程控制解决方案的全球提供商,该解决方案可以测量,控制,供电,监视和分析先进制造过程的关键参数,以提高过程性能和生产率。我们的产品源于我们在压力测量和控制,流量测量和控制,气体和蒸汽输送,气体成分分析,残留气体分析,控制和信息技术,臭氧产生和输送,射频和直流功率,无功气体产生方面的核心竞争力以及真空技术。
压力测量与控制
MKS是压力和真空测量的领导者。MKS系列压力和真空测量仪器包括Baratron®电容压力计,压力传感器,压力开关和压力控制子系统。
MKS系列用于控制真空和压力的解决方案包括下游阀门和控制器,上游阀门和控制器,真空隔离阀和集成解决方案。我们的广泛产品包括高速蝶形控制阀,高速摆阀,SST隔离阀以及具有基于模型的高级控制的闭环压力控制器。
MKS是下游压力控制子系统的公认领导者,该子系统集成了排气节流阀,先进的数字控制器和Baratron®过程压力计。我们的整体解决方案以更快的设定值提供更高的吞吐量,减少了过冲/下冲,并增加了正常运行时间。
流量测量与控制
MKS系列质量流量控制器仪器可在各种应用中测量和控制关键气体的流量,例如半导体制造,光学涂料和平板显示器制造。
MKS Instruments的质量流量控制器(MFC)和质量流量计(MFM)可以进行模拟或数字通讯,并具有弹性体或金属密封件。模拟质量流量控制器和质量流量计是基本应用的理想选择,以简单且经济高效的封装提供高性能。与模拟质量流量控制器和质量流量计相比,数字质量流量控制器和质量流量计设备具有多个优点-改进的诊断功能,单个包装中的多种气体功能以及多种范围的功能,从而减少了备件需求并总体上降低了拥有成本。
射频和直流电源
MKS是领先的制造商,提供高可靠性,紧凑型,固态,中频至扩展(VHF)频率的RF发生器,阻抗匹配网络和等离子计量学,用于MRI设备的RF放大器以及功率等级最高为的脉冲和连续DC发生器60千瓦.
真空技术
MKS是压力和真空测量的领导者。MKS压力和真空测量仪器系列包括真空和压力表,真空和压力传感器以及真空和压力表控制器。
防辐射量规:
残留气体分析/质谱
RGA原位过程监控
MKS质谱仪气体分析仪产品是创新的现场过程监控仪器,是完全集成的,针对特定应用的软件包,包括组分残留气体分析仪(RGA),基于Web的RGA,分析设备以及过程RGA和控制软件。
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真空监控和电子诊断 -
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超高真空(UHV) -
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CVD工艺 -
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真空基准RGA -
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离子植入 -
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光刻胶检测 -
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高压RGA
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PVD -
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蚀刻 -
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扩散 -
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转运室监控 -
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泄漏检测 -
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大气压气体分析
防辐射残留气体分析仪:
FTIR,NDIR红外气体分析仪
MKS Instruments的FTIR(傅立叶变换红外)和NDIR(非分散红外)实时和在线气体分析仪能够对多种气体种类(包括NF3,NH3,H2,NO和N2O)和pp多达30%的水。
校准产品
MKS提供用于真空和流量的全面校准产品线。无论您是需要在生产车间使用的便携式便携式现场验证推车还是实验室级计量系统,MKS都可以满足您维护仪器准确性和可追溯性的需求。
等离子体源和臭氧产品
MKS设计和制造RF环形和微波等离子体源,以激发和分解气体。诸如NF3之类的含氟气体用于清除真空处理室壁上的多余沉积物。过程化学的等离子体源包括氧气,氮气和氢气。