磁控溅射真空镀膜机主要在较高真空度下进行的镀膜。磁控溅射真空镀膜机若有灰尘，将会影响真空镀膜的效果和质量。磁控溅射真空镀膜机运作也是通过真空状态下正交磁场是电子轰击氩气形成的氩离子再轰击靶材，靶材离子沉积于工件表面成膜。真空状态就需要抽气系统来进行控制，如果控制不好，就会导致镀膜均匀性问题。

磁控溅射真空镀膜机镀膜质量问题应该注意一下几点：

（1）被镀膜材料表面肯定是有灰尘的，在尽量减小材料表面灰尘的前提下。

（2）真空镀膜设备使用一段时间后，必须要对设备进行清洁维护；

（3）规范操作人员及操作要求，包括穿戴专业的服装、手套、脚套等；

（4）严格处理衬底材料，做到清洁干净，合乎工艺要求；

（5）原材料符合必要的纯度要求；

（6）保证设施设备及操作环境清洁。如材料、样品放置地环境要求，环境温度湿度要求等；

（7）降低真空镀膜设备室内空气流动性低、尽量减小室外灰尘侵入。

 

磁控溅射真空镀膜机镀膜怎么保证镀膜均匀性： 

    （1）真空状态就需要抽气系统来进行控制，每个抽气口都要同时开动并力度一致，这样就能控制好抽气的均匀性，如果抽气不均匀，在真空室内的压强就不能均匀了，压强对离子的运动是存在一定的影响的。另外抽气的时间也要控制，太短会造成真空度不够，但太长又浪费资源，不过有真空计的存在，要控制好还是不成问题的。

    （2）磁场是正交运作的，但你要将磁场强度做到百分之一百均匀是不可能的，一般磁场强的地方，成膜厚度就大，相反就小，所以会造成膜层厚度的不一致，不过在生产过程中，由于磁场的不均匀导致的膜层不均匀的情况却不是常见的，原来磁场强弱虽不好进行控制，但同时工件也在同时运转，且是靶材原子多次沉积此案结束镀膜工序，在一段时间内虽然某些部位厚，某些部位薄，但另一个时间内，磁场强的作用下在原来薄的部位沉积上厚的，在厚的部位沉积上薄的，如此多次，整个膜层最终成膜后，均匀性还是比较不错的。

    （3）氩气的送气均匀性也会对膜层均匀性产生影响，其原理实际上和真空度差不多，因为氩气的进入，真空室内压强会产生变化，均匀的压强大小可以控制成磁控溅射真空镀膜机膜厚度的均匀性。