冷氢化生产工艺探讨(上)
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分类: 技术共享 |
注:本文为笔者个人观点,欢迎大家讨论,不足之处,还请指正!
一、冷氢化技术的发展史:
(1)1948年,联合碳素UCC的分公司林德气体为了找到一种合成TCS的方法而最先开发了冷氢化技术,但在当时生产TCS是为了制备有机硅而非高纯硅。
(2)1950~1960,林德公司在西维吉尼亚建了一个用冷氢化技术生产TCS的生产线。同时,他们发现用Si+HCl的方式(合成法)来生产TCS更加经济,于是就将冷氢化技术搁置。
(3)1973年,当第一次石油危机来临后,美国政府开始寻找石油的替代能源,太阳能就是其中之一,很多公司参与了与之相关的研究(包括多晶硅的生产),其中包括UCC。
(4)1977年,美国总统卡特授权美国航空航天署NASA寻找降低太阳能电池板生产成本的方法。此时,多晶硅的生产再次被提上议事日程。UCC当时介入了此事,便重新把硅烷技术(1971年发明)及冷氢化技术找出来,开始准备建立中试装置。
(5)1979~1981年,UCC在Washougal建立了一个做硅烷(100MTA硅烷)的中试工厂(生产硅烷的第一步生产TCS所采用的是可以闭路循环的冷氢化技术),并成功生产出电阻率为10000的多晶硅。他们希望通过国家对太阳能级多晶硅的支持来提升其电子级多晶硅的名气,因为当时工厂还不能够生产电阻率如此高的电子级多晶硅。
(6)1983年,UCC在Moses lake开始建设1000MTA硅烷的扩大化工厂。但当时在位的总统里根为了解决石油企业利润微薄的问题,抽调了供给NASA研究廉价太阳能利用项目组的资金,叫停了太阳能产业的发展。此后,UCC对太阳能的利用失去了兴趣,于1989年将这个1000吨的硅烷工厂以三成的价格卖给了一个叫ASMI的日本企业。
(7)此后几年,ASMI又将50%的股份卖给了REC,至此REC开始进入多晶硅领域,冷氢化技术的工业化生产得以延续。REC也由此成为冷氢化生产技术新的开拓者。
二、冷氢化工艺原理:
目前国内的冷氢化技术主要分为两种,一种就是传统意义上的由H2、硅粉、STC作为原料在催化剂的作用下及中温高压条件下生产TCS的冷氢化技术,其反应原理如下:
另一种是在传统冷氢化技术上引入回收HCl生产TCS的方法,即氯氢化技术。其整合了三氯氢硅合成和冷氢化两者的特点,可看作是传统冷氢化工艺的衍生和优化,将回首HCl得到充分的利用。其反应原理如下:
三、冷氢化生产工艺概述:
为了便于讨论,需要先充分了解一下冷氢化的生产工艺。为了防止与相关企业产生不必要的知识产权纠纷,本文中的冷氢化工艺论述均来自笔者自己掌握的一些公开资料及个人的生产技术经验汇编而成的技术方案。任何企业或个人如对本文中所阐述的工艺论述有知识产权疑议,请及时与笔者进行联系确认。
一般的冷氢化工艺可以分为四大部分,即物料供应系统(含STC、H2、硅粉、HCL等)、氢化反应器系统、冷凝分离系统和精馏系统。详细工艺如下图所示:
http://s10/middle/95dc01c8xc128c21c9439&690
如果从传统的改良西门子法工艺角度来看,冷氢化工艺其实是由三个工序构成的,即TCS合成工序、合成干法尾气回收的冷凝工序和合成精馏工序。笔者之所以从传统的生产工艺角度来对冷氢化进行工序分割,主要是为了便于分析冷氢化经常存在的问题,并给予一些相应的解决方法。
未完,详见《冷氢化生产工艺讨论(中)》
注:本文为笔者个人观点,欢迎大家讨论,不足之处,还请指正!

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