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第28期|AnsysZemax成像设计线下培训

(2023-03-31 10:44:18)
标签:

ansys

zemax

光学

分类: 课程培训

2013年至今,武汉宇熠已经陪伴各位光学同行走过武汉、北京、杭州、深圳、成都、西安等地,完成了百余期线上线下课程和研讨会,培养了来自全国各地近2000名学员。

 

武汉宇熠具备完善的教学体系良好的口碑和众多光机电学习资料,也拥有经验丰富的光学工程师团队,老师全程线下授课、教学内容通俗易懂,能解决学员现有的项目问题。

 

武汉宇熠为学员提供专业的培训教室,始终围绕“实操演练”,旨在让学员能在实际上手操作中发现问题,解决问题,突破传统成长方式,快速获得光机电技术提升。

 培训介绍

由于很多客户反馈错过了上次的线下培训,武汉宇熠将在4月24日-26日举办为期3天的成像设计培训活动!

图片

本次培训主题为『Ansys Zemax 成像设计』,由宇熠高级光学工程师主讲,针对序列成像设计,帮助学员们掌握 优化技巧、公差分析技巧、热分析、像质评价、坐标变换 等知识点。线下培训学习效率更高、更丰富、更精准,可直接与老师面对面交流提问,当场解决记忆深刻。

 

时间

day1

day2

day3

01

01 Ansys Zemax OpticStudio 简介

02 数据库;镜头库,材料库

03 玻璃材料以及如何定义新材料

11 调制传递函数和成像质量评估

12 双高斯镜头的设计与优化

21 寻找最佳非球面 / 转换非球面类型

22 公差分析简介

23 制造误差和装配误差

02

04 像差简介以及 OpticStudio 中的像差图表

05 优化

13 OpticStudio 中的坐标系统

14 坐标间断面及其使用技巧

15 序列模式中棱镜模型

24 公差评价标准

25 灵敏度 / 反灵敏度 / 蒙特卡罗分析

午休时间(12:00-14:00)

03

06局部 / 全局 / 锤形优化 / 优化操作数

07 优化实例:单透镜 / 双透镜

16 实例:扫描振镜

17 实例:科勒照明

18 转换为非序列模式

26 公差补偿器

27 公差操作数

28 公差示例:对单透镜 / 库克三片镜进行公差分析

04

08 热分析

09 二元面及衍射光学表面

10 鬼像及杂散光分析

19 黑盒系统

20 OpticStudio 中的优化工具

29 公差报告

30 镜片 / CAD 制图

注意:

1、统一发送配套的培训教材。

2、学员自备笔记本电脑,培训结束后将为每位学员颁发培训证书。

3、为提高培训效率,本次培训采用小班授课模式。培训名额有限,欲报从速。

4、如报名人数未达最低开课标准,武汉宇熠将取消或延迟本门课程, 具体情况以开课前一周通知为准。

 培训费用

 

费用:¥ 3980元 / 人 

· 三人及以上组团报名可享受八折优惠;

· 费用含培训、教材、发票和证书,其他费用自理;

· 发票统一开“培训服务费”。

报名方式:扫码报名

 

图片扫码报名图片工作人员微信

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