第28期|AnsysZemax成像设计线下培训

标签:
ansyszemax光学 |
分类: 课程培训 |
2013年至今,武汉宇熠已经陪伴各位光学同行走过武汉、北京、杭州、深圳、成都、西安等地,完成了百余期线上线下课程和研讨会,培养了来自全国各地近2000名学员。
武汉宇熠具备完善的教学体系、良好的口碑和众多光机电学习资料,也拥有经验丰富的光学工程师团队,老师全程线下授课、教学内容通俗易懂,能解决学员现有的项目问题。
武汉宇熠为学员提供专业的培训教室,始终围绕“实操演练”,旨在让学员能在实际上手操作中发现问题,解决问题,突破传统成长方式,快速获得光机电技术提升。
由于很多客户反馈错过了上次的线下培训,武汉宇熠将在4月24日-26日举办为期3天的成像设计培训活动!

本次培训主题为『Ansys
Zemax
成像设计』,由宇熠高级光学工程师主讲,针对序列成像设计,帮助学员们掌握
时间 |
day1 |
day2 |
day3 |
---|---|---|---|
01 |
01 Ansys Zemax OpticStudio 简介 02 数据库;镜头库,材料库 03 玻璃材料以及如何定义新材料 |
11 调制传递函数和成像质量评估 12 双高斯镜头的设计与优化 |
21 寻找最佳非球面 / 转换非球面类型 22 公差分析简介 23 制造误差和装配误差 |
02 |
04 像差简介以及 OpticStudio 中的像差图表 05 优化 |
13 14 坐标间断面及其使用技巧 15 序列模式中棱镜模型 |
24 公差评价标准 25 灵敏度 / 反灵敏度 / 蒙特卡罗分析 |
午休时间(12:00-14:00) |
|||
03 |
06局部 / 全局 / 锤形优化 / 优化操作数 07 优化实例:单透镜 / 双透镜 |
16 实例:扫描振镜 17 实例:科勒照明 18 转换为非序列模式 |
26 公差补偿器 27 公差操作数 28 公差示例:对单透镜 / 库克三片镜进行公差分析 |
04 |
08 热分析 09 二元面及衍射光学表面 10 鬼像及杂散光分析 |
19 黑盒系统
20 |
29 公差报告
30 |
注意:
1、统一发送配套的培训教材。
2、学员自备笔记本电脑,培训结束后将为每位学员颁发培训证书。
3、为提高培训效率,本次培训采用小班授课模式。培训名额有限,欲报从速。
4、如报名人数未达最低开课标准,武汉宇熠将取消或延迟本门课程, 具体情况以开课前一周通知为准。
费用:¥
·
·
·
报名方式:扫码报名

