【课程大纲】

01 OpticStudio 软件功能介绍;

02 材料库、镜头库介绍；

03 如何定义新材料；

04 如何使用镜头库；

05 像差理论介绍；

06 Zemax 里像差分析图谱；

07 优化；

08 局部优化

09 全局优化；

10 锤形优化；

11 优化函数架构技巧；

12 单透镜优化实例；

13 双胶合优化实例；

14 热分析及衍射光学元件的使用;

15 实例设计及分析；

16 MTF；

17 双高斯镜头设计及优化；

18 像质评价与图像模拟；

19 坐标变换；

20 坐标断点面的使用技巧；

21 序列模式棱镜建模；

22 扫描反射镜设计实例；

23 柯勒照明综合设计实例；

24 投影系统设计；

25 集光系统设计；

26 暗盒系统介绍；

27 分析工具应用；

28 寻找最佳非球面；

29 曲率套样板；

30 镜头匹配工具；

31 Zemax 公差分析功能介绍;

32 加工误差、装配误差；

33 灵敏度分析;

34 反灵敏度分析;

35 蒙特卡罗分析;

36 公差评价标准；

37 公差操作数；

38 补偿变量的使用；

39 单透镜公差分析；

40 库克镜头公差分析；

41 分析报告查看说明；

42 公差脚本的使用；

43 镜头出图、CAD 出图；

44 小结及答疑。

【课程信息】

主办单位：武汉宇熠科技有限公司

培训主题：Zemax 成像设计

培训形式：线上培训

培训时间：2022年8月27~28日 (9:00-17:00；周末两天)

培训费用：¥ 1980元 / 人 

(三人及以上组团报名可享八折优惠)、

报名方式：扫码报名

注：为了让大家能有更多的机会参与我们的线上直播课程，武汉宇熠即将开展 周末 线上培训，以便工作日没有时间来看直播的朋友们也能够参与进来，与老师和学员们交流经验。

扫码即可报名！