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〔RT设备杂记〕关于x射线管阳极靶的四个术语

(2014-01-28 11:51:45)

  由于远东BBS有个关于反射靶 的帖子,被朋友加盖了图章。因此,想介绍:放射医学影像理论广泛应用的、关于靶的四个术语。如有不当,请指正。

1 薄靶与厚靶

  当靶材确定时,打靶电子在靶中的射程R,决定于打靶电子的动能---管电压或打靶电压。我们讨论打靶电子束动能和靶厚度t匹配问题---韧致辐射强度在空间分布问题,就要先进行薄靶与厚靶的区分。我们把t≤R的靶,称为薄靶;t>R,称为厚靶。笔者依据资料〔1〕作如此界定。

  笔者根据资料〔2〕推断:500KeV的打靶电子在钨中的射程R小于0.5mm。普通x射线机钨靶厚度t一般为2mm,在钨靶后面还有铜阳极体,所以实际使用的普通x射线管,都是厚靶。

2 透射靶和反射靶

  上述薄靶和厚靶,又称为透射靶和反射靶。其含义是:电子束从靶的一面射入,而x射线从从靶的另一面射出的靶,为透射靶。如以逸出靶面的x射线束轴线,与打靶电子束方向(从左向右以AB表示)夹角α来区分,透射靶,α90; 电子束从靶的一面射入,而x射线从从靶的同一面射出的靶,为反射靶,即反射靶的α≥90度。笔者依据资料〔3〕作如此界定。

  薄靶,适合做高能射线的透射靶;厚靶,是普通x射线管使用的反射靶。

参考资料

1〕《美国无损检测手册.射线卷》〔M(1992年中译本) 333-334

靶厚度

2〕丁富荣等编著.辐射物理〔M.北京大学出版社,2004. 21页图

1.18

3〕李月卿主编.医学影像成像理论(2) M.人民卫生出版社,

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