加载中…
个人资料
  • 博客等级:
  • 博客积分:
  • 博客访问:
  • 关注人气:
  • 获赠金笔:0支
  • 赠出金笔:0支
  • 荣誉徽章:
正文 字体大小:

[转载]关于有源区,场氧区,扩散区几个概念

(2017-01-22 10:14:09)
标签:

转载

分类: IC
源区、沟道区和漏区合称为MOS管的有源区(Active),而有源区之外的区域定义为场氧区(Fox)。有源区和场区之和就是整个芯片表面。
Fox + Active = Surface
有源区active 又叫diff ,又叫thin oxide。
NP、PP要包Active,就是为了能更好、全部地向Active区域注入离子。
NP AND Active=Ndiff
PP AND Active=Pdiff
有源区外,即使画出NP或PP,离子也无法成功注入并形成Diffusion,因为厚场氧层隔绝了离子的注入。

0

  

新浪BLOG意见反馈留言板 欢迎批评指正

新浪简介 | About Sina | 广告服务 | 联系我们 | 招聘信息 | 网站律师 | SINA English | 产品答疑

新浪公司 版权所有