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国产芯片有进步了？掩膜版为突破口

(2020-03-14 06:24:08)

标签：

芯片

分类：与电子计算机有关

这两天股市大幅下跌，看了一眼掩膜版上市公司的股价，本来就不高也跟着大幅下跌。可能是在科创板上市，能买的人有限，据说不到300万，比起上亿股民是少数，芯片产业最关键的环节资本要支持，但多数股民不能买，这是个问题。

现在国产芯片惹人关注大多在纳米概念上，什么10纳米7纳米芯片、asml设备之类，这都是新闻语言、广告语言，实际芯片最关键的技术是掩膜版，也就是集成度，在不大的芯片上能集成上亿晶体管这才是关键。掩膜版是什么？掩膜版英文叫mask，电视台电影后期制作叫“遮罩”，最常见的是镂空喷字版：

啊？芯片制造跟镂空喷字、电影电视后期制作一样？对，完全一样，只不过芯片很小而已，都是制作一个模板然后喷上去或刻上去。至于芯片为什么叫‘掩膜版’，这要追溯到60年前，那会儿覆铜板做电路板都是用油漆在覆铜板上画电路，然后扔到三氯化铁水里腐蚀，油漆画的地方保留，画不到的地方腐蚀掉了，油漆就是‘膜’，后来mask在芯片制造上就借鉴过来叫做“掩膜”，实际就是个镂空电路图。但掩膜版大，激光刻是等比缩小，这就是光刻机的技术了，如下图：

如今国内已经有了专业制作掩膜版的企业并且已经上市，这说明国产芯片正在悄悄进步，但资本没特别关注，支持力度也不够，可能把眼睛都盯在7纳米上了。14纳米能做1亿晶体管（每平方毫米），7纳米就不一定，关键看掩膜版能不能画出一亿个来。

芯片制作是一层一层来的，晶体管层刻完，底面刻MIM电容，之后上面喷多晶硅电阻，都需要掩膜版，把掩膜版作为国产芯片产业突破口是条路子，中间掩膜版（较大板）都在光学显微镜可以观察的范围，正是体现工匠精神、精雕细刻的阶段。集成电路逻辑设计搞好、物理设计加掩膜版搞好就行了，暂时搞不了光刻机也没什么，现在国内14nm光刻机已经有了，就看集成度了。

当然光刻机也很重要，在400纳米到7纳米这个范围光不能直接刻，光刻机要到紫外线频段才能有效，很难！想自产，慢慢来。

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