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吴半秋

(2008-12-02 14:22:53)
标签:

吴半秋

光掩模

photomask

应用材料

applied

materials

走出懦弱

分类: 感悟随想

 

 

昨天我的朋友、世界著名的光掩模专家吴半秋博士从美国回来,给我带了本书《走出懦弱》。这是他出的一本自传。

尽管这本书相貌平平,在跳读一些文章后,我却有些感动。

首先感动于半秋的执着,尽管印数不多,在浩瀚如烟的书市中很难找到这本小书,但半秋依旧认真地、几易其稿地完成了书的编写;

而书里充满感情的叙述,尽管多是半秋和他家人的一些经历,但却从一个百姓的角度,真实地折射出这个国家过去的历史,以及无数远赴重洋人们的心声。

也许正是因为这些平白里的努力和坚持,使得半秋成为集成电路产业最为尖端的光掩模(Photomask)领域里,耳熟能详的权威和大成者。

所以,我得好好地看看这本书,也为半秋这样的朋友而自豪。

 

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