光刻新技术问世，佳能叫板阿斯麦

2023-10-20

日本《朝日新闻》10月19日：日本佳能公司历时10年开发出的新技术产品——可用于半导体制造的光刻设备已正式开售。光刻机市场被荷兰的阿斯麦(ASML)碾压。新设备能否动摇阿斯麦的霸主地位备受关注。

佳能公司18日在横滨市举行技术展示会，展示了这款“纳米压印”光刻设备。这是一种在半导体晶圆上绘制精密电路的设备。

它运用了佳能公司擅长的喷墨打印机和照相机技术，就像打印机滴墨一样，将极少的树脂滴到半导体晶圆上。类似盖印章，将刻有凹凸电路图案的掩模压印到晶圆上制成电路。在这一过程中，晶圆和掩模的位置相差不到几纳米。

主流光刻设备是通过强光照射，将电路蚀刻在晶圆上。为使强光变细，要用很多透镜和反射镜，经过多次反复照射。制造成本高，耗电量大，环境负荷也是个课题。

“纳米压印”不使用强光，耗电仅为光刻设备的十分之一，电路可一次压印制成，制造成本很低。设备本身也更便宜。

半导体的电路线宽越细，性能越高。尖端产品线宽已细至2纳米。“纳米压印”可以做线宽5纳米的产品，甚至挑战2纳米。

“纳米压印”是佳能公司为对抗阿斯麦，10年前开始开发。意在“成为游戏规则改变者”。