2个硅原子宽度！美国造出0.7nm芯片：EUV光刻机都做不到

2022年09月26日

当ASML的EUV光刻机还在为制造2nm、1nm芯片发愁的时候，美国公司却在另一个先进光刻方向上取得了突破，Zyvex使用电子束光刻技术制造了768皮米，也就是0.7nm的芯片，这种芯片可用于量子计算机。

Zyvex推出的光刻系统名为ZyvexLitho1，基于STM扫描隧道显微镜，使用的是EBL电子束光刻方式，制造出了0.7nm线宽的芯片，相当于2个硅原子的宽度，是当前制造精度最高的光刻系统。

这个光刻机制造出来的芯片主要用于量子计算机，制造高精度固态量子器件以及纳米器件及材料。对量子计算机来说精度非常重要。

ZyvexLitho1不仅是精度最高的电子束光刻机，而且可以商用。Zyvex公司已经可以接受订单，在6个月内出货。

EBL电子束光刻机的精度可以轻松超过EUV光刻机，这种技术的缺点就是产量很低，无法大规模制造芯片，只适合制作小批量的高精度芯片或者器件，指望它取代EUV光刻机还不现实。