电镀槽中电流分布的状态，与电镀层的分布有重要的相关性。由于镀槽的形状、电极的形态和镀液与电极间的状态等都与电位的分布有关系，因此，镀槽中电流分布，不可能用简单的方程加以描述，而需要借助拉普拉斯方程。

   如图1 所示：

图1矩形镀槽电极参数的座标系

     对于电镀槽内一次电流分布的研究是在不考虑极化和过电位等影响的情况下进行的。这时对于任一个矩形镀槽，两电极内的空间，可以看作平板电极之间的空间，并且随镀液深度的方向是同质的。这就构成一个有电极的三维的镀槽空间。

在三维情况下，拉普拉斯方程可由下面的形式描述，问题归结为求解对实自变量x、y、z二阶可微的实函数φ：

上面的方程常常简写作：

式中div表示矢量场的散度（结果是一个标量场），grad表示标量场的梯度（结果是一个矢量场），或者简写作：

式中Δ称为拉普拉斯算子，拉普拉斯方程的解称为调和函数。这个函数可以用傅立叶级数简单地求解。这时镀槽内的电力线，可以近似地看作是由平行线构成的矩形方格区域。如图2所示。这是平板电极间的理想电力线分布模式。

图2 矩形镀槽平板电极间的理想电力线分布

但是，一般镀槽及其电极配置，都不是完全的矩形三维状态。其电力线分布呈现出复杂的情况。如图3所示。

  图3 平板电极间的实际电力线分布

电极间电力线的实际分布导致电沉积的边缘效应和尖端放电现象。除了采用调整电极间距离或屏蔽法改善以外，主要靠调整镀液成份，从微观角度改善电流在阴极表面的分布。即二次电流分布。

（以上内容摘自《现代电镀手册》，有删改）

   新书讯

http://s13/middle/4b0a53d9gab227c8fb58c&690电镀实用技术问答，机械工业出版社，2011-7-1第一版

       本书以26章的篇幅，500多个问题，全面系统地解答了当代电镀技术从基础知识到试验方法再到实际生产应用的各种典型问题，并且在介绍各种常规镀种的同时，还涉及各种新的电镀技术和镀种，既简明扼要，又深入浅出。
    本书适合电镀专业技术人员和一线生产人员阅读，也可作为电镀专业和相关专业师生以及技术人员了解电镀技术的参考资料。读者可以从“科技金书网”以书名或作者名从搜索，查阅详细目录或从网上订购，可以很方便地得到本书。

    这是今年刚出来的新著，今年大概就只这一本了。另一本正有关专利方面的书今年可以完稿，出书可能要等到明年。写作虽然是很有乐趣的事，但是每等书印出来以后，难免总有遗憾的地方，唯有每次交稿前，自己多看几遍，且每看总有修改或增补，有时篇幅就拉大了。贪大求全是一个坏习惯，应该有所舍弃，才有可能出精品，一点感悟而已。