TiC（碳化钛），TiN（氮化钛）等坚硬物质的涂层方法大致有两种，化学气相沉积法（CVD法）和物理气相沉积法（PVD法）。
化学气相沉积法的温度为900-1100℃，已超过了高速钢的回火温度，所以不能用于高速钢的表面涂层。
物理气相沉积法温度较低，在500℃以下，适合对高速钢丝锥，铣刀的涂层，物理气相沉积法中最具代表性，最常用的是HCD离子电镀工艺。
HCD离子电镀工艺的基本过程是：把涂层材料钛（Ti）放于高真空槽内的坩中，用电子射线让它熔解发并与氮气反应，使之在已预热且受负电压作用下的刀具表面上生成细密。牢固的氮化钛（TiN）涂层，TiN涂层呈金黄色，与刀具母体的密著性很好。丝锥表面的TiN涂层厚度为1-3um 。

TiN涂层的特点是：
提高表面硬度，提高耐磨性。
减小磨擦系数。
防粘结。
提高耐热性。

TiN涂层的丝锥兼备氮化处理和氧化处理两者的优点，因此，对软材料和硬材料均有很好的性能，适用范围很宽，对一般的轧制结构钢，易产生粘结的不锈钢，合金工具钢等均有很好的切削效果。