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几种化工流程模拟软件介绍

(2007-08-16 09:46:48)
标签:

知识/探索

分类: 化学
 几种化工流程模拟软件介绍   
Aspen Plus y 7kt a%vd
bwx;O)jI W
Aspen Plus是一种广泛应用于化工过程的研究开发,设计,生产过程的控制,优化及技术改造等方面的性能优良的软件。该模拟系统是麻省理工学院于70年代后期研制开发的。由美国AspenTech公司80年代初推向市场,它用严格和最新的计算方法,进行单元和全过程的计算,为企业提供准确的单元操作模型,还可以评估已有装置的优化操作或新建,改建装置的优化设计。这套系统功能齐全,规模庞大,可应用于化工,炼油,石油化工,气体加工,煤炭,医药,冶金,环境保护,动力,节能,食品等许多工业领域。
}Q .aU U "
q D?I
PRO/II
w w6A/6 z'
&bo !j
PRO/II流程模拟程序广泛地应用于化学过程的严格的质量和能量平衡。从油/气分离到反应精馏, PRO/II提供了最广泛的、最容易使用有效模拟工具。产品的PROVISION图形用户界面GUI), 提供了一个完全交互的、基于Windows的环境,无论是对于建立简单的,还是复杂的PRO/II模型,它都是理想的环境。
%d.Fn@=bh
, n( ewD
ChemCAD
9o#,P 3 <
2 Y 2s' w
ChemCAD是一个用于对化学和石油工业、炼油、油气加工等领域中的工艺过程进行计算机模拟的应用软件,是工程技术人员用来对连续操作单元进行物料平衡和能量平衡核算的有力工具。使用它。可以在计算机上建立和现场装置吻合的数据模型,并通过运算模拟装置的稳态和动态运行,为工艺开发、工程设计以及优化操作提供理论指导。
5 Wl [?6
:S2B> WW0K
HYSYS
D do+dQ tG
z)J",Q}?
r+oI 3 fP
Hyprotech出品的Hysys是一个化工流程模拟动态仿真软件,是一款环境模拟设计软件,允许设计者通过概念上的设计而简化制作过程来完成项目工作。完整的交互性能充分发挥你的创造力。
q::D ?T1^
,u>f7 U y-
DESIGN II
n P j LI?
Q U MN t F
}Go7'#x} L
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Y?$ wdH @5
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p 6G 3R M
化学制程模拟软件。可以为碳化氢及学石化产品及天然气制程.天然气的管道注入,氨水.甲醇.氢气设备提供了严格的制程模拟。
"T_ /Wl {
3( " / "I
**************重点推荐:CHEMCAD流程模拟软件 ******
l{]v% R <X
- [+ M]]U
Ip.{m G w
通用特点
u^Y y s6
   图形用户界面
B,["S/ Z(
   用户化报表及PFD图
R ~oi,lci
   交互式操作
3}=c;( [B
   复合的热曲线窄点分析
ba M#KvU
   水合物预测
p>Uv! v A
   二氧化碳预测
C@dbVJb>s
   蒸馏曲线分析
H|B?KR|t:
   与LOTUS 1-2-3, Excel, 和AutoCAD及兼容软件的接口
E fUu T
   用户可以增添自己的单元操作,热力学,组分和/或图形符号
1$C}] U>
   在线的C语言解释器
('~ [92sX0
   用户可自行增加DDL模块
LGn,+ c} 7
   稳态,非稳态,批量,和动态工艺过程模拟
= = rMWs}'
热力学特点
Ntz= z w
   汽相蒂合
T % ~ n8
   不同的单元和塔板可以采用不同的热力学方法和焓值模型
OH( xw" &~
   不同的单元和塔板可以采用不同的二元交互作用参数
pT Ll 7/:
   汽液和液液平衡
L9 Bc'UIKG
   对未定义组分估算物性参数
! [] C {
K值选项
e{184 2 a
   碳氢化合物: Peng-Robinson, Soave-Redlich-Kwong, API Soave, Grayson-Streed, Maxwell-Bonnell, BWRS, K值图, 正规溶液
vF gKB3 \
   化学品: NRTL, UNIQUAC, Wilson, UNIFAC, Margules, Van Laar, Chien-Null, 4参数状态方程
3W #wFqMb
   聚合物: 用于聚合物的UNIFAC, Florry-Huggins
M- ~ on
   特殊系统: 氨、酸水、甲醇、乙烷-乙烯、丙烷-丙烯、分压(离子)
nh ;@;p aQ
   其他: 亨利气体定律,蒸汽压,用户K-表格
9~:Y7 CLv@
   多项式K-值,用户子程序
$< ]C+ [:
   用于氢蒂合化合物的状态方程
E5bUe:) ct
d 1c q,m(
   碳氢化合物和石化产品:
8wSgj{3M
   BWRS, Peng-Robinson, SRK, API SRK, Redlich-Kwong, Lee-Kessler
@ 79ZF N%S
   化学品: 潜热,溶液的积分热
{&Z [| AZ
   水: 蒸汽表
J6cDmvY=6
其他: 氨、多项式、H表、用户子程序、质量平衡
/ &l e Q
数据回归
9 (v4lUCTZ
纯组分物性数据回归
r)OO_D:B7
多组分汽液平衡数据和液液平衡数据回归
rk) c7Z d
从UNIFAC中回归
=A 8n8TR G
从无限稀释溶液数据中回归
;% z 5
回归电解质数据
_I}$Qc'Y
回归反应速率数据**
q Tt [Ak
工程数据
t i B)fSo1
   纯组分物性数据库
`XN( zn^
   用于活度系数方程的二元交互作用参数库
<Fxv 5B^5
   电解质数据库
>H@;SO }JL
   汽相蒂合数据库
t% BZHRF
   与其他公司数据库的接口
%6+*]@0 \q
电解质
ny p <"!*
   对强电解质和弱电解质分别使用Pitzer和MNRTL方法,这些方法已经经过修正,包含了与温度有关的交互作用参数
z357s-^S
   数据库中存有这些方法的二元和三元交互作用参数
* ! q8d8+
   电解质反应平衡数据储存在最常用的工业系统数据库中.无数据时,用GibbS自由能的方法计算
zO=}TQ ee
   专家系统帮助用户对电解质问题进行设定
`anL\bx4t
固体处理
WYfvB PtN
   结晶器
Z7g2 W ]
   离心过滤器
cN78"F Z8
   旋风分离器
$DG }~Vs z
   洗涤器
O H`* [\
   文秋里洗刷器
*B? 4$Z %+
   袋式过滤器
pK7~6k 9*|
   筛网
Y |p q]3
   水力旋风分离
cIBVxMizsB
   真空过滤器
3"~ f 1 cM
   静电沉淀器
"H cqJ F
   干燥机
(h c%X 7
   沉降分离器
2'[k cy7
   压碎器、研磨器
kY:, ($
反应器
FY] sp ;
   化学计量系数
tW e`yenn
   平衡
a ;~ " Wae
   动力学 (平推流或全混流)
g : HZI
   Gibbs
Bbib k+KgT
   多至100个同时发生的反应
G4 $s-u U{
   灵活的速率形式
b*G.LH
   水-天然气偏移数据
'R$NJOK[
   机理数据
` ] s;tv
蒸馏
*P#dw5R+ {
   简捷法和精确法
;* !v6s wz
   包括简单塔计算到复杂塔计算,以及多塔布置
km = zg
   灵活的规格指定
oS%[ZPx@
   算法可选
^ E ? U5O
反应蒸馏
k:- Sg /.
   反应可以由平衡或动力学方程指定
N Sh<2d>(B
   灵活的反应速率形式
u W ?7}9
   纯度和温度规格设定
R3 ?o; QB[
   多至20个反应
r6 Q]1W5c5
动态单元操作
<3 tIYxl.*
   间歇蒸馏 *
;TlgF><8
   间歇反应器 **
KPw1r {>n4
   PID调节器 **
*I n @)m=
   调节阀 **
Z LO6ONcd
   动态容器 **
7DKUj4sG +
   离散事件管理 **
nx /3i \
   延时模块 **
V`Q"IH5q }
其他单元操作
s{ | &K
   热交换器
0@wTK? 3D4
   膨胀机/透平
k &`+J_9
   压缩机
.Y[x| {4nu
  
c# oim mO
   混合器
@uzWakA#g
   分离器
[)UE vS:
   组份分离器
.y_MP" &K
   闪蒸
`+ :8+sx)Y
   严格三相闪蒸
] g$*D M]
   明火加热炉
Ls };# z
  
>APn3 cz'9
   LNG热交换器,可进行夹点分析
y Zs:M *$
   调节器
m,eac o]8s
   参考物流
cI am n !
   液液萃取
f_AN]#L( h
   管线设计
=)VP _{r
   计算器
dCWD\" O *
设备设计
aB _] = Z
   塔板 (筛板, 泡罩, 浮阀)
J 89C O+o
   填料 (散堆和规整)
TrX? o 4
   管线
!Qv[r%Qc
   管壳式换热器***
-r$D& 'n
   压力容器
/B,lEp^X'
   孔板
E&[\=?sxI:
   调节阀
nx ? =l >.
   泄放阀(DIERS)
B`* k+kat
设备费用估算
H z{ jWv5
   计算工厂主要设备的购置和安装费用
Q+ Zr E~#-
硬件要求
"R'`92l7sr
   Windows 2000, Windows 95, 98 和 NT
6; Nacj g
CHEMCAD能为您做什么?
^Lu~T 32)
$ :z# * k
>sDorxX{o]
ChemCAD是一个化工生产计算机模拟软件, 在工艺开发、工程设计、优化操作和技术改造中都能发挥很大的作用。
3L|195'*
工程设计
Gs l Q6ao
在工程设计中,无论是建立一个新厂或是对老厂进行改造,ChemCAD都可以用来选择方案, 研究非设计工况的操作及工厂处理原料范围的灵活性。工艺设计模拟研究不仅可以避免工厂设备交付前的费用估算错误,还可用模拟模型来优化工艺设计, 同时通过进行一系列的工况研究,来确保工厂能在较大范围的操作条件内良好运行。即使是在工程设计的最初阶段, 也可用这个模型来估计工艺条件变化对整个装置性能的影响。
s]-%P -n
优化操作
L}+8[kd#kk
对于老厂,由ChemCAD建立的模型可作为工程技术人员用来改进工厂操作、 提高产量的产率以及减少能量消耗的有力工具。可用模拟的方法来确定操作条件的变化以适应原料、产品要求和环境条件的变化。 该模型可指导工厂的操作以降低费用、提高产率。这样的例子在一些流程模拟软件应用较好的化工装置可以举出很多。
D* Lg Qy
技术改造
mf dTgu{ 0
ChemCAD也可用模拟研究工厂合理化方案以消除“瓶颈”问题,或采用先进技术改善工厂状况的可行性, 如采用改进的催化剂、新溶剂或新的工艺过程操作单元

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