今天备课，到噬菌体这个实验了。然后脑子里有个怪圈，上清液和沉淀中这少量放射性是实验允许的误差，或者是人为消除不了的误差，还是实验失误造成的？

为什么有这样的一个问题呢，我是这样想的:我们做实验实际时都是力求接近理论数值，但允许偏差，但是做为一个经典实验，如果误差是可消除的，当这个实验做的没有误差是最好的，如果真的有误差存在，做为一个科学家，肯定是力求去让这个实验最完美，误差越小越好，没有误差更好。

我手头有本《重难点手册》，里面在分析为什么会出现少量误差，这让我很别扭，如果允许这误差存在，我认为分析这误差的原因就很怪。查了些资料，了解了下一些题目，有了一些自己的看法:

第一篇是王甫荣老师的对噬菌体侵染细菌实验的再认知

文章里有这样的两个误差分析纠正:

1．用35S标记的噬菌体侵染细菌，理论上沉 淀物中不含放射性，但实际上含有少量放射性的原因是什么？

通常的分析：可能由于搅拌不充分或离心时间过短或转速过低等原因，有少量含35S的噬菌体外壳仍吸附在细菌表面，随细菌离心到沉淀物中，使沉淀物中出现了少量的放射性。

纠正：其实，不是搅拌不彻底，而是在保证细菌结构稳定的前提下， 搅拌不可能将吸附在细菌表面的噬菌体全部剥落下来 （大约剥落75％），导致部分吸附在细菌表面的噬菌体 外壳随细菌沉降，使沉淀物中也有较弱的放射性。

2．用32P标记的噬菌体侵染细菌，上清液中含有较弱放射性的原因是什么？

通常的分析：（1）保温时间过短，有一部分噬菌体未侵入细菌细胞内，经离心后分布于上清液中，使上清液出现放射性。（2）从噬菌体和细菌混合培养到用离心机分离，这一段保温时间过长，噬菌体在细菌内增殖后释放出的子代经离心后分布于上清液中，也会使上清液的放射性升高。

纠正：赫尔希和蔡斯实验的实际步骤是：标记→侵染→离心→培养→搅拌→离心→检测。侵染后离心的目的就是去除未吸附的噬菌体，所以上清液中的放射性不是未吸附细菌的噬菌体携带的。在噬菌体一步生长曲线的基础上，赫尔希和蔡斯严格控制实验时间在20min内。离心前细菌处于潜伏期，尚未裂解。所以，上清液中的放射性也不是细菌裂解后释放的子代噬菌体携带的，而是吸附细菌后自发脱落的完整噬菌体（未注入DNA）所携带的。

顺着文章里的内容去找到了知网里的文章，还有一道小猿里的题:

我刚开始在和同伴感慨，这文章真好，可惜人微言轻，改变不了什么，大家普遍存在着错误认知。

不过在和她的讨论里面得出一个观点，书本里的少量放射性是实验认为所消除不了的，所以才会出现在课本里，出现在科学家的论文里，如果能消除，其实他们早消除了。

那难道我们以前的说法就真的完全错了么？其实也不见得。书本里存在的少量放射性，是实验所避免不了的，但是人工的操作失误会导致其放射性变高。

所以我们提问的方式，不应该是分析这少量放射性存在的原因，而是去分析放射性偏高的原因是什么，哪些行为会导致放射性变高。分析这无法消除的误差其实是用错误的见解去解释不该解释的知识。

(一)比如说用35S标记蛋白质时，沉淀里会有少量放射性，即使搅拌再久，他还是这么个比例？怎么能说是搅拌不充分呢？但是如果分析其放射性偏高的原因，则可以认为搅拌不够充分。

(二)比如用32P标记DNA时，科学家在做的时候，培养时间是得当的，而且细菌尚未裂解，仍在上清液中有少量放射性，而且未吸附的噬菌体已经先被离心掉了，少量放射性的原因是有些吸附的自发脱落，没把DNA注进去。搅拌离心后位于上清液。人家培养时间得当，强行揣测人家培养时间过长导致裂解，子虚乌有安人一罪名谁也不好受!但是如果分析上清液中放射性偏高的原因，可能是培养时间过长，导致的细菌裂解释放。也有可能呢培养时间过短，已吸附的未注入。