原创：罗以；微信公众号“DeepTech深科技”2023.08.11.18.08发表于北京，2023.08.11、2023.08.12编辑。

“我们正在与中国科大微纳研究与制造中心以及上海光源软 X 射线干涉光刻线站通力合作，基于可触发解聚精准高分子这一平台技术发展面向极紫外应用的高性能光刻胶材料，当前进展顺利并于近期提交了 2 项专利申请”。中国科学技术大学教授刘世勇表示。

近日，他和团队造出一种自降解寡聚氨酯，并基于可触发降解的寡聚精准聚氨酯，发展出一种单组份不含光酸的高性能光刻胶，有望突破传统化学放大型光刻胶的局限。

由于自降解寡聚氨酯的分子量是单一且确定的，这能让光刻胶的解聚速度具备较好的可控性；同时，精准短链的结构特征赋予了该类材料可面向极紫外光刻应用的重要功能。而且，当光刻胶中的任何一条弱键断裂之后，还能以级联的方式自发降解。

对于传统的化学放大型光刻胶来说，往往存在过显影的风险。但是，基于自降解寡聚氨酯的光刻胶，由于其拥有自降解机制，故能让光刻胶的曝光区域完全解离为小分子，从而与未曝光区域产生显著的溶解性差异，进而规避过显影的问题。