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idonus氢氟酸气相刻蚀系统

(2019-11-18 17:34:23)
标签:

氢氟酸气相刻蚀

idonus

mems

vpe

hf蒸气相蚀刻机

简介:

瑞士ldonus Sari是世界领先的MEMS工艺设备制造商, 其推出的氢氪酸气相蚀刻系统(HF VPE)是具有无粘结蚀刻工艺的半导体加工装置。
随着材料尺寸、加工尺寸的日趋减小, 微机电系统(M icro-Electro-Mecha n ica ISystem, 简称MEMS)中的微尺寸效应对系统的影响越来越明显, 微小的间隙和脆弱的结构使得MEMS释放非常困难, 在MEMS的加工过程中,微器件内部会因相互作用(如蚀刻液、清洗液内聚力致微结构表面变形)而产生粘附, 且传统的湿法工艺容易造成硅表面自然氧化层无法完全去除, 进而影响到MEMS的电气性能, 使用能有效改善粘附问题的工艺是提高MEMS性能、减少失效的关键。
ldonus HF VPE采用准干法工艺, 通过对晶片基底加热, 晶片表面的水分可以有效控制。由千晶片完全不与液体接触, 可以进行无粘附MEMS释放。
VPE适用千4英寸、6英寸和8英寸晶片的蚀刻处理。

产品描述:

donus HF VPE由储液器、反应室和晶片夹具组成,晶片夹具集成有加热元件用来控制待刻蚀晶片的温度,背部3个螺丝用以固定夹紧环来夹持晶片,螺丝不直接接触HF溶液,戴保护手套也可直接操作。ldonus还提供可选的静电夹持装置,单芯片(大于5mm)和晶片通过静电夹持装置固定在加热元件上而不受机械夹紧应力的影响。物理夹持和静电夹持都能保护晶片背面不被刻蚀。
反应室在晶片夹持好以后会形成一个全封闭的空间, HF溶液在此蒸发对晶片进行刻蚀,刻蚀速率由晶片的温度决定,温度可以在35°(-60°(之间调整。
储液器与反应室之间由带阀门的流通管连接, 通过手柄来提升或降低储液器液位可以使HF溶液流进(刻蚀处理前)或流出(刻蚀处理后)反应室, HF溶液可以循环重复利用。 VPE是一个密闭的系统, 刻蚀处理时没有HF释放, 最大程度保护操作人员的健康安全。

VPE系统即装即用, 占用空间小, 方便安装到实验室现有手套箱或保护箱中

产品参数:

产品代码VPE150
晶片尺寸150 mm or 6"
刻蚀液HF 50%, mixtures of HF and organic sol\A9nts
刻蚀特性:
Etch rate 2-30μm/h
Etching homogenity Typically 90% (on wafer surface); min 50%
Back side protection Typically 3 mm exclusion from the edge
Etching exclusion 5mm from the edge of the clamping ring
Etched materials Silicon dioxide (Si02)
Resistant materials Silicon, poly-silicon, noble metals, aluminium
加热功能
Operating temperature 35°C to 60°C
晶片夹具:
Mechanical clamping ring For 150 mm wafers (other sizes optional)
Wafer contact By 8 clips at 0 144 mm
Mechanical clamping Screwing with 3 large nuts from backside; nuts are
ne\ter in direct contact with HF acid vapor
Electrostatic clamping (optional) For single chips (>5 mm) as well as 150 mm wafers
For all electrically conducti\e materials
Bipolar electrostatic chuck
反应室&储液器Communicating 归ssels
Safe acid handling system
Re-use of HF acid
Etchant \Olume 200 ml (max. 290 ml)
控制器Seperate housing or rack mounting 归rsion
Power supply 110 V AC 60 Hz or 230 V AC 50 Hz
Power consumption 200VA
Front panel protection IP65 (spraywater resistant)
材质All materials HF resistant
尺寸(mm)
Wafer holder 0 210 x 50 ; (with handle: 210 x 340 x 50)
Reaction chamber with rese心r 245 x 250 x 400 (w x h x I)
Controller unit 200 x 70 x 200 for 230 V / 200 x 90 x 300 for 11 O V
安装:Acid fume hood with air extraction Need of Electrical power Water for rinsing


中国区代表:周经理 17717871005

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