1,wafer清洗,涂胶,打开墙壁电源开关,左数2、3、4、6个;打开操作台照明灯开关,前面两侧开关;
下方柜子里,两仪器的开关,清洗用的加热,heat至100c,两仪器initialize,E/R后,进入automatic,选择recipe,清洗只有一个,涂胶,根据需要选择。check温度到100C后,放上wafer,按下已经亮的start,等到start再次亮起结束,拿下wafer,盖上仪器,室温冷却1min,涂胶,放wafer,(有定位的)进入选定的recipe,VAC,I,结束。关闭仪器off,关闭电源。
2,加热110C@4min,温度设置办法set,temp,110,set,温度到后,放上wafer,4min后,拿下,冷却1min.
3,打开MA6 Pump开关;打开气阀,逆时针转到蓝色向上;打开墙壁左数1开关,此时MA6下方UV lamp开关显示为“stand
by”;(若未现实,可能一起右侧的main power switch 未打开
)on,显示为“ready”;CP,显示为“start”;start,显示为'lamp cold';等待至显示为“IDLE
274(275)”.
4,打开MA6开关;Load;根据现实,利用上下键,确认系统在MA6模式工作;Enter;Select
Programme,选择exposure type(根据涂胶),select programme确认
5,edit parameter;调整exposure time(根据涂胶),可以按住fast,这样调节幅度快些;ed